2025-04-11 12:23:00
金融界2025年4月11日消息，国家知识产权局信息显示，湘潭宏大真空技术股份有限公司申请一项名为“一种等离子体发生器及磁控溅射镀膜机”的专利，公开号 CN 119789292 A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种等离子体发生器及磁控溅射镀膜机，等离子体发生器包括具有等离子体发生腔的壳体和用于向等离子体发生腔内通入气体的供气组件，等离子体发生腔设有多个进气口，供气组件设有用于分别通入两种不同气体的第一气源和第二气源，每个进气口均连通第一气源和第二气源，等离子体发生器对应至少一个进气口设有用于调节至少一种气体进气量的调节阀。磁控溅射镀膜机设有该等离子体发生器。本发明具有可提高等离子体的能量密度均匀一致性、结构简单、成本低、易于实施应用等优点。
天眼查资料显示，湘潭宏大真空技术股份有限公司，成立于2003年，位于湘潭市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本4358万人民币，实缴资本3838万人民币。通过天眼查大数据分析，湘潭宏大真空技术股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息225条，此外企业还拥有行政许可35个。
本文源自金融界